等離子表面處理儀的核心結(jié)構(gòu)圍繞等離子體生成與樣品處理設(shè)計(jì)，主要包括以下模塊：
 

　　等離子體發(fā)生器可通過射頻電源、微波電源或直流電源將氣體(如氬氣、氫氣、氮?dú)?離化為等離子態(tài)，產(chǎn)生包含離子、電子、活性基團(tuán)等的高活性物質(zhì)。
 

　　真空系統(tǒng)由真空腔體(不銹鋼或石英材質(zhì))和真空泵(干泵或油泵)組成，用于維持處理所需的真空環(huán)境，確保等離子體穩(wěn)定生成。
 

　　反應(yīng)室(真空腔體)是樣品放置區(qū)域，配備電極組件(如平板式、圓筒式或箱式結(jié)構(gòu))，通過電場作用激發(fā)氣體產(chǎn)生等離子體。
 

　　控制系統(tǒng)采用PLC、單片機(jī)或觸摸屏控制，實(shí)現(xiàn)參數(shù)調(diào)節(jié)(如真空度、處理時(shí)間、氣體流量)、設(shè)備監(jiān)控及故障診斷。
 

　　氣體輸送系統(tǒng)通過流量控制器準(zhǔn)確導(dǎo)入工藝氣體，確保處理效果穩(wěn)定。
 

　　等離子表面處理儀通過以下步驟實(shí)現(xiàn)樣品表面處理：
 

　　·真空泵將反應(yīng)腔體內(nèi)氣體抽至設(shè)定真空度，為等離子體生成提供條件。
 

　　·通入工藝氣體后，等離子體發(fā)生器在電極間產(chǎn)生高壓交變電場，加速自由電子能量，激發(fā)氣體分子形成等離子體。
 

　　·高活性等離子體與樣品表面污染物(如有機(jī)物、微顆粒)發(fā)生物理或化學(xué)反應(yīng)：
 

　　·物理碰撞：離子風(fēng)沖擊材料表面，斷裂化學(xué)鍵，增加粗糙度。
 

　　·化學(xué)反應(yīng)：活性基團(tuán)與污染物反應(yīng)生成揮發(fā)性物質(zhì)，被真空泵抽離。
 

　　·表面改性：放電產(chǎn)生的臭氧等強(qiáng)氧化劑使材料表面氧化，引入極性基團(tuán)(如羰基、過氧化物)，提升表面能。
 

　　·通過清潔、活化、刻蝕等作用，改善樣品表面粘附力、印刷性、涂布性等性能。